在評(píng)論陶瓷加熱器系統(tǒng)的好壞時(shí)，主要還是要看在整個(gè)加熱操作時(shí)，是否以輻射加熱為主要方式，以傳導(dǎo)對(duì)流加熱為輔，輻射加熱占有比例越大，說明系統(tǒng)的性能越好。
    經(jīng)過陶瓷加熱器對(duì)大量烘道、烘箱熱能轉(zhuǎn)換效率的測(cè)定、理論上的研究。在80年代中期提出了辨別輻射烘道的2個(gè)方法：
    ①測(cè)定烘道內(nèi)空間溫度、元件表面溫度，只有T空間<T元件20℃至40℃時(shí)，烘道才被稱為輻射烘道，當(dāng)元件符合遠(yuǎn)紅外節(jié)電條件時(shí)，稱為遠(yuǎn)紅外烘道。
    ②改流水作業(yè)為靜態(tài)烘烤，若未出現(xiàn)漆膜不均勻現(xiàn)象時(shí)，才能被稱為輻射烘道，否則不能稱為遠(yuǎn)紅外加熱。
    在歷經(jīng)多年的研究、實(shí)踐探討過程后，研究人員總結(jié)出遠(yuǎn)紅外烘道，烘箱的以下3條設(shè)計(jì)原則：
    ①均勻輻射場(chǎng)設(shè)計(jì)：在保證陶瓷加熱器工件不管在什么位置上，表面所接受的輻射能為均勻狀態(tài)。均勻輻射場(chǎng)設(shè)計(jì)是利用輻射光學(xué)原理，計(jì)算出一組數(shù)據(jù)，即：元件排列方式、元件間隔、反射罩形式、元件與工件距離。從而擺脫元件間隔100mm至350mm，元件與工件距離50mm至400mm的定性設(shè)計(jì)。
    ②均勻勻溫度場(chǎng)設(shè)計(jì)：為避免烘道內(nèi)均勻溫度場(chǎng)被破壞，應(yīng)讓烘道內(nèi)的所有溫度差都保持在±5～10℃范圍內(nèi)。
    ③均勻控溫技術(shù)設(shè)計(jì)：采用通斷式控溫而導(dǎo)致陶瓷加熱器局部溫度波動(dòng)大。晶閘管調(diào)壓可降低元件的輻射，增加對(duì)流作用。因此應(yīng)采用調(diào)功器控溫，進(jìn)而讓遠(yuǎn)紅外技術(shù)達(dá)到理想狀態(tài)。
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